Instontech 苏州凌存 硅电容与半导体电容
硅电容利用半导体工艺实现电容结构,可用于宽带耦合、射频匹配或高密度去耦。不同系列的优化目标不同。
凌存硅电容按宽带耦合、射频前端和高密度去耦等需求选型。硅电容属于半导体工艺电容,不应把两个名称视为互不相关的产品。应用中应综合容值、工作电压、ESR、ESL、频率特性和装配方式进行评估。
提供型号与选型条件先按实际功能进入产品分类,再核对完整型号和使用条件。
本目录可继续查看Instontech 苏州凌存 硅电容与半导体电容、Instontech 苏州凌存 宽带硅电容、Instontech 苏州凌存 高密度去耦硅电容等产品方向;分类名称不能代替具体型号的规格确认。
硅电容利用半导体工艺实现电容结构,可用于宽带耦合、射频匹配或高密度去耦。不同系列的优化目标不同。
硅电容利用半导体工艺实现电容结构,可用于宽带耦合、射频匹配或高密度去耦。不同系列的优化目标不同。宽带耦合应在整个目标频带比较S参数和插入损耗,不能以单一测试频率代表宽带性能。
硅电容利用半导体工艺实现电容结构,可用于宽带耦合、射频匹配或高密度去耦。不同系列的优化目标不同。高密度去耦应结合电源分配网络阻抗、安装寄生和目标频率检查容量分配与互连位置。
凌存硅电容按宽带耦合、射频前端和高密度去耦等需求选型。硅电容属于半导体工艺电容,不应把两个名称视为互不相关的产品。应用中应综合容值、工作电压、ESR、ESL、频率特性和装配方式进行评估。